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[发明专利]多源照射装置-CN202080082809.7在审
发明人： S·W·H·K·斯蒂恩布林克;M·J-J·维兰德;A·V·G·曼格努斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本文中公开了一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，该装置包括多个源(401)，该多个源各自被布置为发射带电粒子射束；聚光透镜(403)，该聚光透镜被布置为从多个源接收射束；以及操纵器阵列布置(404射束被布置为使得：在聚光透镜的平面处，来自至少一个源的射束与来自多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交。聚光透镜被配置为分开地大致准直从每个源接收的射束。操纵器阵列布置被配置为操纵已经被聚光透镜大致准直的射束，从而以单列的形式生成包括来自多个源的带电粒子的一个或多个射束。操纵器阵列布置包括偏转器阵列(404)和多射束生成器(405)，偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜大致准直的所述射束，从而生成包括来自多个源的带电粒子的多个大致平行的经大致准直的射束，其中多射束生成器被配置为：接收由偏转器阵列生成的多个大致平行的经大致准直的射束；以及依据所接收的多个大致平行的经大致准直的射束，生成多射束，其中多射束包括多个经大致准直的子射束。
照射装置

[发明专利]用于用于增材制造的设备的照射系统-CN201680013723.2有效
发明人： J·鲍尔;B·H·伦茨;F·P·维斯特 -专利权人：通快激光与系统工程有限公司
申请日： 2016-03-01 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01S3/23 文献下载
摘要：一种用于设备(1)的照射系统(3)，所述设备用于基于激光的增材制造，所述照射系统具有第一激光射束(13A)的第一射束源(13)和第二激光射束(15A)的第二射束源(15)，其中，第二激光射束(15A)的射束品质高于第一激光射束照射系统(3)还具有用于在设备(1)的制造空间(5)内部聚焦第一激光射束(13A)和第二激光射束(13B)的共同的扫描仪光学器件(21)以及射束导引系统，所述射束导引系统具有用于将第一激光射束(13A)从第一射束源(13)导引至扫描仪光学器件(21)的第一射束路径(13A′)并且具有用于将第二激光射束(15A)从第二射束源(15)导引至扫描仪光学器件(21)的第二射束路经(15A′)，其中，射束导引系统具有用于将第一射束路径(13A′)的射束路径与第二射束路经(15A′)的射束路径叠加的射束组合装置(19)。
用于制造设备照射系统

[发明专利]用于提供电磁射束的射束装置-CN201380039490.X有效
发明人：斯特凡·马尔克穆斯;尤利乌斯·穆沙韦克;托比亚斯·施密特 -专利权人：欧司朗有限公司
申请日： 2013-07-19 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： G02B19/00 文献下载
摘要：以不同的实施方式提供一种用于提供电磁射束的射束装置(10)，其具有用于产生和输出电磁射束的至少一个射束源(12)并具有光学体(40)。光学体(40)具有外壁(16)和内壁(44)。内壁(44)朝向射束源(12)并且具有反射器(14)。光学体(40)设计为并且相对于射束源(12)布置成，使得反射器(14)使电磁射束的至少一个分量反射回射束源(12)，并且使得电磁射束的至少一个分量穿过内壁(44)入射到光学体(40)中，并且使得外壁(16)内反射电磁射束的、入射到光学体(40)中的至少一个分量。经内反射的电磁射束的至少一部分从光学体(40)中射出。
用于提供电磁束装

[发明专利]发送单元和用于扫描扫描区域的激光雷达设备-CN201910103726.0在审
发明人： H-J·施瓦茨;K·施托佩尔;M·R·施特罗黑克尔;S·施皮斯贝格尔 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：公开一种激光雷达设备的发送单元，所述发送单元具有至少两个射束源，所述至少两个射束源用于产生和发射点状的或线状的电磁射束到扫描区域中，其中，至少一个射束源具有能够根据由所述至少一个射束源产生的电磁射束的辐射角而调整的运行温度在此，不同的运行温度可以产生具有角度相关的发射波长的射束，这可能导致激光雷达设备的信噪比的改善。此外，公开一种激光雷达设备。
激光雷达射束源发送单元电磁射束扫描区域发射波长发射点辐射角信噪比射束线状扫描

[发明专利]将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法-CN202010188052.1有效
发明人： J·H·蒂默;J·舒尔特海斯 -专利权人：瓦里安医疗系统公司;瓦里安医疗系统粒子治疗有限公司
申请日： 2015-08-21 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： A61N5/01 文献下载
摘要：本公开实施例涉及用于将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法、以及用于控制粒子射束从粒子源至支撑装置的传送的方法。所述用于将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法包括：将来自所述粒子源的粒子射束沿着射束输送组件传送到照射喷嘴的水平输入，所述照射喷嘴被配置成在所述水平输入处围绕旋转轴线而转动；从所述照射喷嘴内的所述水平输入重定向所述粒子射束，从而将来自所述照射喷嘴的所述粒子射束从第一位置照射传送至所述支撑装置；和改变所述射束输送组件中的所述粒子射束的路径长度，以便跟随所述照射喷嘴的所述旋转轴线相对于所述支撑装置的垂直位置。总体上，本公开实施例提供了改进的用于将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法。
粒子传送支撑装置方法

[发明专利]包括地面加工机和另一车辆及间距监控装置的作业牵引车-CN202010098727.3有效
发明人： M·弗里茨;H·兰格;M·佩斯;C·卡尼亚 -专利权人：维特根有限公司
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： E01C19/00 文献下载
摘要：一种作业牵引车，包括以理论间距依次沿作业方向运动的自驱动第一车辆和其他的车辆，作业牵引车具有输出间距信号的间距监控装置，间距监控装置具有射束源和检测射束源辐射的传感器组件，车辆作为源车辆携带射束源，射束源朝作为目标车辆的另一车辆射出电磁辐射，使得辐射仅存在于射束空间中，该射束空间在围绕第一射束空间轴线的第一角范围和围绕第二射束空间轴线的第二角范围延伸。传感器组件沿着传感器轴线延伸并且布置在目标车辆上，通过射束源照射传感器组件上的基准检测区域，传感器轴线绕平行于第一射束空间轴线的倾斜轴线倾斜地布置，从而车辆间距的变化引起传感器组件的检测区域的位置变化并因此引起传感器组件的检测状态的变化
包括地面加工另一车辆间距监控装置作业牵引车

[实用新型]作业牵引车-CN202020179410.8有效
发明人： M·弗里茨;H·兰格;M·佩斯;C·卡尼亚 -专利权人：维特根有限公司
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： E01C19/00 文献下载
摘要：一种作业牵引车，包括以理论间距依次沿作业方向运动的自驱动第一车辆和其他的车辆，作业牵引车具有输出间距信号的间距监控装置，间距监控装置具有射束源和检测射束源辐射的传感器组件，车辆作为源车辆携带射束源，射束源朝作为目标车辆的另一车辆射出电磁辐射，使得辐射仅存在于射束空间中，该射束空间在围绕第一射束空间轴线的第一角范围和围绕第二射束空间轴线的第二角范围延伸。传感器组件沿着传感器轴线延伸并且布置在目标车辆上，通过射束源照射传感器组件上的基准检测区域，传感器轴线绕平行于第一射束空间轴线的倾斜轴线倾斜地布置，从而车辆间距的变化引起传感器组件的检测区域的位置变化并因此引起传感器组件的检测状态的变化
作业牵引车

[发明专利]粒子治疗闭环反馈逐斑点射束电流控制系统和方法-CN202310025886.4在审
发明人： J·斯特勒;M·谢德勒 -专利权人：瓦里安医疗系统粒子治疗有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本公开涉及粒子治疗闭环反馈逐斑点射束电流控制系统和方法。用于粒子治疗递送系统中的闭环反馈射束控制的技术可以包括：接收处理计划射束参数，接收当前斑点的所确定的输出射束电流，基于处理计划射束参数和当前斑点的所确定的输出射束电流来生成经调整的源射束电流设置点，以及基于经调整的源射束电流来调整当前斑点的输出射束电流
粒子治疗闭环反馈斑点电流控制系统方法

[发明专利]高频等离子体射束源及喷射表面的方法-CN200480015920.5有效
发明人： R·贝克曼 -专利权人：莱博德光学有限责任公司
申请日： 2004-04-08 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及高频等离子体射束源(1)，带有：等离子体室(3)；电气装置(8、9)，将电压施加在该高频等离子体射束源(1)上，以激发和维持该等离子体；从等离子体空间(3)引出等离子体射束(I)的装置(4)；等离子体射束(I)从高频等离子体射束源(1)产生，基本上呈发散的喷射特性。本发明还涉及用高频等离子体射束源的等离子体射束(I)喷射一个表面的方法，其中所述等离子体射束(I)是发散的。
高频等离子体射束源喷射表面方法

[发明专利]用于软电子电离的离子源和有关系统和方法-CN201510909287.4有效
发明人： M·王 -专利权人：安捷伦科技有限公司
申请日： 2015-12-10 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01J49/16 文献下载
摘要：一种离子源配置为用于软电子电离并且产生低电子能量却高强度的电子射束。所述离子源包括：电子源，其产生所述电子射束并且将其发送到电离腔室中。所述电子射束在所述电离腔室中与样品材料交互，以产生可以发送到下游设备的离子射束。所述电子源配置为用于在所述电离腔室的上游生成虚拟阴极，其增强所述电子射束的强度。
用于电子电离离子源有关系统方法

[发明专利]用于灌装容器的设备-CN201380037298.7有效
发明人： U·克劳斯;D·拉齐科;M·布罗伊宁格 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2013-06-03 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： B65B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于灌装容器(1)的设备(10)，其具有灌装装置(12)，所述灌装装置将液体输出到待灌装的容器(1)中，其中，所述液体的所述灌装液位(5)可借助于检查装置(25)检测，并且所述检查装置(25)包括激光射束源(27)，所述激光射束源使一激光射束朝所述容器(1)取向，所述激光射束穿过所述容器(1)，并且所述激光射束在所述容器(1)的对置于所述激光射束源(27)的一侧上借助于至少一个传感器元件(32)检测，根据本发明，朝所述容器(1)取向的激光射束构造成面型射束(7)。
用于灌装容器设备

[发明专利]X射线成像设备和方法-CN202180040204.6在审
发明人： P·J·罗特希尔德 -专利权人：维肯检测公司
申请日： 2021-06-01 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01V5/00 文献下载
摘要：一种x射线成像设备，包括：x射线源模块(1502)，其被配置为输出源x射线；铅笔射束形成模块(1506)，其具有输入和输出端口；以及模块接合接口，其使得用户能够选择源模块和铅笔射束形成模块的对准和非对准配置在对准配置下，铅笔射束形成模块与源模块对准以在输入端口处接收源x射线并且通过输出端口朝着目标输出扫描铅笔射束。在非对准配置下，铅笔射束形成模块不与x射线源模块对准以接收源x射线，也不输出铅笔射束，而是使得源x射线能够形成指向目标的静止广域射束(1602)。
射线成像设备方法

[发明专利]粒子射束装置和复合射束装置-CN202110279321.X在审
发明人：永原幸儿;间所祐一 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2021-03-16 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： H01J37/26 文献下载
摘要：本发明提供粒子射束装置和复合射束装置，该粒子射束装置能够选择性地且适当地切换带电粒子射束和中性粒子射束。粒子射束镜筒(19)具备离子源(41)、聚光镜(52)、电荷交换栅极(55)和物镜(56)。离子源(41)产生离子。聚光镜(52)通过切换离子射束的聚焦而切换离子射束和中性的射束作为照射至试样(S)的粒子射束。电荷交换栅极(55)通过将离子射束的至少一部分中性化而转换成中性粒子射束。在对试样(S)照射中性粒子射束作为粒子射束的情况下，物镜(56)减少朝向试样(S)的离子射束。
粒子束装复合

[发明专利]泛射柱、带电粒子工具以及用于对样品的带电粒子泛射的方法-CN202180024634.9在审
发明人： J·范索伊斯特;G·S·M·贝格隆德;R·W·J·M·黄·芬恩·钟;D·马丁内斯·内格雷特·加斯奎;L·迪努·古特勒 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：一种用于将带电粒子多射束投射到样品的带电粒子设备，该设备包括：被配置为生成朝向样品的初级束的初级柱、以及用于对样品的带电粒子泛射的泛射柱。泛射柱包括：带电粒子源(301)，被配置为沿着束路径发射带电粒子束；源透镜(310)，被布置在带电粒子源的下游；聚束透镜(320)，被布置在源透镜的下游；以及孔径体(350)，被布置在聚束透镜的下游，其中孔径体用于使带电粒子束的部分通过；并且其中源透镜是可控制的以便可变地设置带电粒子束在源透镜下游的束角。
泛射柱带电粒子工具以及用于样品方法

[发明专利]AM装置-CN202080048811.2有效
发明人：篠崎弘行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B22F12/00 文献下载
摘要：根据一实施方式，提供一种用于制造造型物的AM装置，该AM装置具备：射束源，该射束源用于向造型物的材料照射射束；调节装置，该调节装置用于调节射束的强度；射束调节机构，该射束调节机构调节材料上的射束尺寸；以及造型方法确定装置，所述造型方法确定装置构成为基于造型物的材料的特性来确定射束的强度和材料上的射束尺寸。
am 装置

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